岩矿光薄片磨拋新工艺
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    岩矿光薄片磨抛工艺,过去一直釆用氧化铬粉剂,这种粉剂毒性大,有致癌作用,使用时有损磨片工人的健康,清洗已抛光薄片的残液,通过下水道排放,可导致环境污染。目前我国各岩矿实验室切磨抛仪器设备及工艺过程,基本上仍是五、六十年代的设备。广大磨片工人长期在污染严重、设备陈旧的条件下,从事低效率劳动。磨制出的光薄片在精度、质量等方面,与国外同类实验室的差距很大,已远远不能满足岩石学、砂矿学向微观、定量等方向发展的要求。对磨抛工艺的改革已刻不容缓。

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

吴蕴珉,1988,岩矿光薄片磨拋新工艺[J].岩石矿物学杂志,7(1):48.,1988,[J]. Acta Petrologica et Mineralogica,7(1):48.

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期: